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鋰離子電池的電解質和電極狹縫式涂布試驗機

更新時間: 2023-05-22

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產品報價:

產品特點: 鋰離子電池的(de)(de)(de)電解質和電極狹(xia)(xia)(xia)縫(feng)式涂(tu)布(bu)(bu)試(shi)(shi)驗(yan)機(ji)由山東安尼麥特(te)儀器(qi)有限公(gong)司精(jing)(jing)心研制高(gao)精(jing)(jing)度(du)(du)精(jing)(jing)密型涂(tu)布(bu)(bu)試(shi)(shi)驗(yan)機(ji),本機(ji)主要應用(yong)于蓋板玻璃(li)的(de)(de)(de)各種涂(tu)膠作業(ye)而開發設計的(de)(de)(de)專用(yong)裝置(zhi),同時(shi)也(ye)可以用(yong)于其他類(lei)似材料的(de)(de)(de)涂(tu)布(bu)(bu)。本涂(tu)布(bu)(bu)試(shi)(shi)驗(yan)機(ji),底(di)板采(cai)用(yong)微(wei)孔陶瓷吸附(fu)平臺,同時(shi)采(cai)用(yong)非接(jie)觸式狹(xia)(xia)(xia)縫(feng)式涂(tu)布(bu)(bu)頭(tou),通(tong)過進料壓力,狹(xia)(xia)(xia)縫(feng)寬度(du)(du)調(diao)節,以及狹(xia)(xia)(xia)縫(feng)頭(tou)與(yu)底(di)板間(jian)隙三(san)個因(yin)數控(kong)制濕膜厚度(du)(du),同時(shi)軟件系(xi)統增加了(le)高(gao)度(du)(du)調(diao)節與(yu)反饋系(xi)統,大大提高(gao)了(le)涂(tu)布(bu)(bu)精(jing)(jing)度(du)(du)與(yu)均勻性。

鋰離子電池的電解質和電極狹縫式涂布試驗機的詳細資料:



鋰離子電池的電解質和電極狹縫式涂布試驗機產品特點

狹縫式(shi)涂(tu)布(bu)(bu)(bu)試驗(yan)機由(you)山東安(an)尼麥特儀器有限公司精(jing)心(xin)研制(zhi)高精(jing)度(du)(du)精(jing)密(mi)型涂(tu)布(bu)(bu)(bu)試驗(yan)機,本機主要應用(yong)(yong)于蓋板(ban)(ban)玻璃的各(ge)種涂(tu)膠作業而開發設計(ji)的專用(yong)(yong)裝置(zhi),同時(shi)(shi)也(ye)可以(yi)用(yong)(yong)于其他(ta)類似(si)材料的涂(tu)布(bu)(bu)(bu)。本涂(tu)布(bu)(bu)(bu)試驗(yan)機,底板(ban)(ban)采用(yong)(yong)微(wei)孔(kong)陶瓷吸附(fu)平(ping)臺,同時(shi)(shi)采用(yong)(yong)非接觸式(shi)狹縫式(shi)涂(tu)布(bu)(bu)(bu)頭(tou),通過進(jin)料壓力,狹縫寬度(du)(du)調節,以(yi)及狹縫頭(tou)與(yu)底板(ban)(ban)間隙(xi)三(san)個因數控制(zhi)濕膜(mo)厚度(du)(du),同時(shi)(shi)軟(ruan)件系統增加了(le)高度(du)(du)調節與(yu)反饋系統,大(da)大(da)提高了(le)涂(tu)布(bu)(bu)(bu)精(jing)度(du)(du)與(yu)均(jun)勻性。

應用(yong)場景:針對微(wei)米級(ji)特別是納米及(ji)亞微(wei)米級(ji)功能(neng)性涂層(ceng)的(de)涂布試(shi)驗、墨水調(diao)試(shi)、工藝研究、小規(gui)模制樣研發等。

涉及行(xing)業:包(bao)括水凝膠、液態金屬、智(zhi)能(neng)包(bao)裝材料、光電(dian)(dian)(dian)(dian)材料、光刻膠、功能(neng)涂層、微電(dian)(dian)(dian)(dian)子及半導體(ti)封(feng)裝等(deng)大(da)面積涂布(bu)制(zhi)備(bei),以及氫(qing)燃料電(dian)(dian)(dian)(dian)池(chi)(chi)膜電(dian)(dian)(dian)(dian)極(ji)、電(dian)(dian)(dian)(dian)解水制(zhi)氫(qing)膜電(dian)(dian)(dian)(dian)極(ji)、鋰電(dian)(dian)(dian)(dian)池(chi)(chi)、各種活性(xing)催化(hua)劑、異質(zhi)結太(tai)陽(yang)能(neng)電(dian)(dian)(dian)(dian)池(chi)(chi)、薄膜太(tai)陽(yang)能(neng)電(dian)(dian)(dian)(dian)池(chi)(chi)、鈣鈦礦太(tai)陽(yang)能(neng)電(dian)(dian)(dian)(dian)池(chi)(chi)、有(you)機(ji)太(tai)陽(yang)能(neng)電(dian)(dian)(dian)(dian)池(chi)(chi)、OLED柔(rou)性(xing)穿戴器件、有(you)機(ji)場效(xiao)應晶體(ti)管,導電(dian)(dian)(dian)(dian)聚合(he)物(wu),納(na)米線和(he)納(na)米管,二維材料,有(you)機(ji)發(fa)光二極(ji)管和(he)鈣鈦礦發(fa)光二極(ji)管、鈣鈦礦光伏電(dian)(dian)(dian)(dian)池(chi)(chi)、鋰離子電(dian)(dian)(dian)(dian)池(chi)(chi)的(de)(de)電(dian)(dian)(dian)(dian)解質(zhi)和(he)電(dian)(dian)(dian)(dian)極(ji)、染色敏感性(xing)太(tai)陽(yang)能(neng)電(dian)(dian)(dian)(dian)池(chi)(chi)、電(dian)(dian)(dian)(dian)子皮膚等(deng)器件的(de)(de)制(zhi)備(bei)。

由(you)于(yu)常規實(shi)驗(yan)(yan)室涂(tu)(tu)布(bu)試(shi)驗(yan)(yan)機(ji),受到(dao)刮(gua)刀調節,底板(ban)平整度等的影響(xiang)很(hen)難達到(dao)涂(tu)(tu)布(bu)納米級膜,狹(xia)(xia)縫式涂(tu)(tu)布(bu)試(shi)驗(yan)(yan)機(ji),底板(ban)采用(yong)檢驗(yan)(yan)級大理石平臺(tai),同(tong)(tong)時采用(yong)非接觸式狹(xia)(xia)縫式涂(tu)(tu)布(bu)頭,通過進料壓力,狹(xia)(xia)縫寬度調節,以(yi)及狹(xia)(xia)縫頭與(yu)底板(ban)間隙三個(ge)因數控(kong)制(zhi)濕(shi)膜厚度,同(tong)(tong)時軟件系統增加了高度調節與(yu)反饋系統,大大提高了涂(tu)(tu)布(bu)精度與(yu)均勻性(xing)。在國(guo)內光學(xue)膜涂(tu)(tu)布(bu)實(shi)驗(yan)(yan)室研發打(da)樣(yang)階段得到(dao)了廣泛的應用(yong)。

鋰離子電池的電解質和電極狹縫式涂布試驗機技術參數 

1.狹縫擠出頭材(cai)質:不銹鋼

2.狹(xia)縫擠出頭涂(tu)布寬(kuan)度:10-50mm

3.狹縫擠(ji)出墊片(pian)厚度:100 μm

3.狹縫擠出墊片套(tao)裝:5 個 50毫(hao)米寬(kuan)墊片或5 個 25毫(hao)米寬(kuan)的(de)墊片

4.電熱板(ban)溫度(du):120°C

5.行程長(chang)度:10-100mm

6.平臺速度:100 μm.s-1

7.最高平臺(tai)速度(du):50 mm s - 1

8.注射(she)器速度:12 μm.s-1

9.最高注射速(su)度(du):5 mm.s-1

10.涂(tu)布頭與基片之間(jian)最大活動距(ju)離(li):13 mm

11.管(guan)道(dao)和接(jie)(jie)頭材質:聚(ju)四氟乙烯(xi)管(guan),高密度PP魯(lu)爾接(jie)(jie)口鎖定(ding)連接(jie)(jie)器、不銹鋼魯(lu)爾接(jie)(jie)口連接(jie)(jie)器至螺紋連接(jie)(jie)件

12.電源參(can)數:100 - 240 V 50Hz

13.尺寸規格:380 mm x 330 mm x 220 mm

14.重量:30kg

產品特點 

1.集成度高-可以(yi)通過將涂布機集成到(dao)一個在線系統中,以(yi)達到(dao)提升產量、大幅度降低薄膜(mo)電子設備的整體生產成本(ben)。

2.簡單可靠—狹縫擠(ji)出式涂布是(shi)一種的制造薄(bo)濕膜片的技(ji)術(shu),多米長(chang)度涂層厚(hou)度變(bian)化(hua)小于2%。涂層厚(hou)度是(shi)通過(guo)改(gai)變(bian)溶液流(liu)量、基片速度進行控制。通過(guo)對(dui)幾個不(bu)同幾何參數的設置可以降低涂層缺(que)陷的機率(不(bu)改(gai)變(bian)涂層厚(hou)度)。


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