鋰離子電池的電解質和電極涂布試驗機簡單介紹：

狹縫(feng)(feng)式涂(tu)布(bu)(bu)試(shi)驗(yan)機(ji)由山東(dong)安尼(ni)麥(mai)特(te)儀器有限(xian)公司精(jing)心研制高精(jing)度(du)精(jing)密型涂(tu)布(bu)(bu)試(shi)驗(yan)機(ji)，本機(ji)主(zhu)要應用(yong)于蓋板(ban)玻璃(li)的(de)各種涂(tu)膠作業而開發設(she)計的(de)專用(yong)裝置，同時(shi)也可以用(yong)于其他(ta)類似材料的(de)涂(tu)布(bu)(bu)。本涂(tu)布(bu)(bu)試(shi)驗(yan)機(ji)，底(di)板(ban)采(cai)(cai)用(yong)微孔陶瓷吸附平(ping)臺，同時(shi)采(cai)(cai)用(yong)非接觸式狹縫(feng)(feng)式涂(tu)布(bu)(bu)頭，通過進(jin)料壓(ya)力(li)，狹縫(feng)(feng)寬度(du)調節(jie)，以及狹縫(feng)(feng)頭與底(di)板(ban)間隙三個因數控制濕膜厚(hou)度(du)，同時(shi)軟件系統增(zeng)加了(le)高度(du)調節(jie)與反饋系統，大大提高了(le)涂(tu)布(bu)(bu)精(jing)度(du)與均勻性。

應(ying)用場(chang)景：針對(dui)微米級(ji)特別是(shi)納米及亞微米級(ji)功能(neng)性涂層的涂布試驗、墨(mo)水調試、工藝研究、小規模制樣研發等。

涉(she)及(ji)行業：包括(kuo)水凝膠(jiao)、液態金屬、智能(neng)包裝材(cai)料、光(guang)電(dian)(dian)材(cai)料、光(guang)刻膠(jiao)、功能(neng)涂(tu)層(ceng)、微電(dian)(dian)子及(ji)半(ban)導(dao)體封(feng)裝等(deng)大面積(ji)涂(tu)布制備，以及(ji)氫燃料電(dian)(dian)池(chi)膜(mo)(mo)電(dian)(dian)極(ji)、電(dian)(dian)解(jie)水制氫膜(mo)(mo)電(dian)(dian)極(ji)、鋰電(dian)(dian)池(chi)、各(ge)種活性催(cui)化劑、異(yi)質結太(tai)陽(yang)能(neng)電(dian)(dian)池(chi)、薄膜(mo)(mo)太(tai)陽(yang)能(neng)電(dian)(dian)池(chi)、鈣鈦(tai)礦(kuang)太(tai)陽(yang)能(neng)電(dian)(dian)池(chi)、有機(ji)太(tai)陽(yang)能(neng)電(dian)(dian)池(chi)、OLED柔(rou)性穿(chuan)戴器件(jian)、有機(ji)場(chang)效應(ying)晶體管,導(dao)電(dian)(dian)聚(ju)合物,納米(mi)線和納米(mi)管,二(er)(er)維材(cai)料,有機(ji)發(fa)光(guang)二(er)(er)極(ji)管和鈣鈦(tai)礦(kuang)發(fa)光(guang)二(er)(er)極(ji)管、鈣鈦(tai)礦(kuang)光(guang)伏電(dian)(dian)池(chi)、鋰離子電(dian)(dian)池(chi)的電(dian)(dian)解(jie)質和電(dian)(dian)極(ji)、染色敏感性太(tai)陽(yang)能(neng)電(dian)(dian)池(chi)、電(dian)(dian)子皮膚等(deng)器件(jian)的制備。

由于常規實驗(yan)(yan)室(shi)涂布(bu)試(shi)驗(yan)(yan)機，受到(dao)刮刀調(diao)節，底(di)板(ban)(ban)平整度(du)等的影(ying)響很難達到(dao)涂布(bu)納(na)米級(ji)膜，狹(xia)縫(feng)(feng)式涂布(bu)試(shi)驗(yan)(yan)機，底(di)板(ban)(ban)采用檢驗(yan)(yan)級(ji)大(da)理石平臺，同時采用非接觸(chu)式狹(xia)縫(feng)(feng)式涂布(bu)頭，通(tong)過進(jin)料壓(ya)力，狹(xia)縫(feng)(feng)寬度(du)調(diao)節，以及狹(xia)縫(feng)(feng)頭與底(di)板(ban)(ban)間(jian)隙三個(ge)因數控(kong)制濕膜厚度(du)，同時軟(ruan)件系(xi)統增加了(le)高度(du)調(diao)節與反饋系(xi)統，大(da)大(da)提高了(le)涂布(bu)精(jing)度(du)與均勻性(xing)。在國內光學膜涂布(bu)實驗(yan)(yan)室(shi)研發打樣階段得到(dao)了(le)廣泛(fan)的應用。

鋰離子電池的電解質和電極涂布試驗機技術參數 

1.狹(xia)縫擠出頭材質：不銹鋼

2.狹縫(feng)擠出(chu)頭涂布(bu)寬度：10-50mm

3.狹縫擠(ji)出墊片厚度:100 μm

3.狹縫擠出墊(dian)(dian)片套裝:5 個 50毫(hao)米(mi)寬墊(dian)(dian)片或5 個 25毫(hao)米(mi)寬的墊(dian)(dian)片

4.電熱(re)板溫度:120°C

5.行(xing)程長(chang)度:10-100mm

6.平臺速度:100 μm.s-1

7.最(zui)高平臺速(su)度:50 mm s - 1

8.注射(she)器(qi)速度:12 μm.s-1

9.最高(gao)注(zhu)射速度:5 mm.s-1

10.涂布頭與基片之間最大(da)活動(dong)距離:13 mm

11.管(guan)道和(he)接(jie)(jie)頭材質:聚四氟(fu)乙烯管(guan)，高密(mi)度PP魯爾(er)接(jie)(jie)口鎖(suo)定(ding)連接(jie)(jie)器、不銹鋼魯爾(er)接(jie)(jie)口連接(jie)(jie)器至螺紋連接(jie)(jie)件

12.電源(yuan)參(can)數：100 - 240 V 50Hz

13.尺寸規格:380 mm x 330 mm x 220 mm

14.重量：30kg

產品特點 

1.集成度高-可(ke)以通過將涂布機集成到一(yi)個(ge)在線系統中，以達到提升產量、大幅(fu)度降低薄膜電子設備(bei)的整體(ti)生(sheng)產成本。

2.簡單(dan)可靠—狹縫擠出(chu)式涂(tu)(tu)布是一(yi)種的(de)制造薄濕膜片的(de)技術(shu)，多米長度(du)涂(tu)(tu)層(ceng)厚度(du)變化小于(yu)2%。涂(tu)(tu)層(ceng)厚度(du)是通過(guo)改變溶液流量(liang)、基片速度(du)進(jin)行控制。通過(guo)對(dui)幾(ji)個不同幾(ji)何參數的(de)設置可以(yi)降低涂(tu)(tu)層(ceng)缺陷的(de)機率(不改變涂(tu)(tu)層(ceng)厚度(du))。

3.適合研(yan)究領(ling)(ling)域應(ying)(ying)用—盡(jin)管狹(xia)縫(feng)擠出(chu)式(shi)涂(tu)(tu)布是(shi)一項非(fei)(fei)常(chang)(chang)強大(da)的技(ji)術(shu)，但在薄膜(mo)電子應(ying)(ying)用領(ling)(ling)域的研(yan)究和開發目前非(fei)(fei)常(chang)(chang)有限。因為它主要是(shi)一項工業技(ji)術(shu)，即使(shi)(shi)的系統價(jia)格也很高，因為狹(xia)縫(feng)擠出(chu)式(shi)涂(tu)(tu)布機的制造商定位(wei)的是(shi)工業領(ling)(ling)域而(er)(er)非(fei)(fei)學術(shu)界(jie)。此外(wai)，這些常(chang)(chang)規的涂(tu)(tu)布系統通常(chang)(chang)很大(da)、很復雜(za)，對(dui)于剛剛開始沉積薄膜(mo)開發所需的處理技(ji)術(shu)的科(ke)研(yan)人(ren)員來(lai)說并不適合。狹(xia)縫(feng)擠出(chu)式(shi)涂(tu)(tu)布機形體小巧，操(cao)作方便(bian)，適合在實驗(yan)室使(shi)(shi)用，這使(shi)(shi)科(ke)研(yan)人(ren)員在實驗(yan)室中使(shi)(shi)用狹(xia)縫(feng)擠出(chu)式(shi)涂(tu)(tu)布機成為可能(neng)，并使(shi)(shi)科(ke)研(yan)人(ren)員能(neng)夠優(you)化溶劑配方和工藝參數—而(er)(er)不需要大(da)量的打印運(yun)行。狹(xia)縫(feng)擠出(chu)式(shi)涂(tu)(tu)布將有助于研(yan)究人(ren)員確保他們的研(yan)究結果在實際大(da)規模(mo)應(ying)(ying)用中的落地(di)。

4.膜(mo)片厚(hou)(hou)度可控- 狹(xia)縫擠出式涂布是一種前測量涂層技術(shu)，濕膜(mo)沉積(ji)的厚(hou)(hou)度僅取決(jue)于溶液流量、底(di)片速度和涂層寬度。當把溶液濃度和材料密度考慮(lv)在(zai)內，就(jiu)有可能確定干膜(mo)厚(hou)(hou)度.

5. 無(wu)缺(que)陷涂(tu)(tu)層 - 狹縫擠出(chu)涂(tu)(tu)布依賴于(yu)穩定(ding)的(de)涂(tu)(tu)層珠的(de)形成(cheng)。這(zhe)(zhe)個珠由上游和(he)下游的(de)半月面組成(cheng)，需要固(gu)定(ding)在狹縫擠出(chu)涂(tu)(tu)布頭的(de)邊緣。通過來(lai)(lai)自平衡涂(tu)(tu)布頭的(de)流量和(he)基片(pian)(pian)表面的(de)粘(zhan)性流，這(zhe)(zhe)個珠可(ke)以(yi)穩定(ding)下來(lai)(lai)。用戶可(ke)以(yi)改變(bian)各種參數，來(lai)(lai)改變(bian)這(zhe)(zhe)兩個相互競爭的(de)流—這(zhe)(zhe)包括溶液流量、底片(pian)(pian)速度(du)(du)，涂(tu)(tu)布頭高(gao)度(du)(du)，溶液潤(run)濕度(du)(du)和(he)狹縫擠出(chu)頭通道厚度(du)(du)。這(zhe)(zhe)可(ke)以(yi)有多種方式，在穩定(ding)的(de)涂(tu)(tu)層加工窗口可(ke)以(yi)應用多種方式，從而獲得無(wu)缺(que)陷的(de)膜片(pian)(pian)。