鈣鈦礦發光二極管狹縫式涂布試驗機簡單介紹:

狹(xia)縫式(shi)涂(tu)(tu)布試(shi)驗機由山(shan)東安尼(ni)麥特(te)儀器有限公司精心研(yan)制高(gao)精度(du)精密型涂(tu)(tu)布試(shi)驗機，本機主要(yao)應用(yong)于(yu)蓋板玻璃的(de)各種(zhong)涂(tu)(tu)膠(jiao)作業(ye)而(er)開發(fa)設計的(de)專用(yong)裝置，同(tong)時也可以用(yong)于(yu)其(qi)他(ta)類似(si)材料的(de)涂(tu)(tu)布。本涂(tu)(tu)布試(shi)驗機，底板采用(yong)微孔陶瓷吸附(fu)平臺，同(tong)時采用(yong)非接觸式(shi)狹(xia)縫式(shi)涂(tu)(tu)布頭(tou)，通過進料壓(ya)力，狹(xia)縫寬(kuan)度(du)調(diao)節，以及狹(xia)縫頭(tou)與(yu)(yu)(yu)底板間(jian)隙三個(ge)因數(shu)控制濕膜厚度(du)，同(tong)時軟件系統增加了高(gao)度(du)調(diao)節與(yu)(yu)(yu)反饋(kui)系統，大大提高(gao)了涂(tu)(tu)布精度(du)與(yu)(yu)(yu)均(jun)勻(yun)性(xing)。

應用場景：針對(dui)微米級特別是納米及亞微米級功能(neng)性涂(tu)層(ceng)的涂(tu)布試驗、墨水調試、工藝研(yan)究、小規(gui)模(mo)制樣研(yan)發等。

涉及行業：包括水凝膠(jiao)、液(ye)態(tai)金屬、智(zhi)能包裝(zhuang)材料(liao)、光電(dian)(dian)材料(liao)、光刻膠(jiao)、功(gong)能涂層、微電(dian)(dian)子及半導體(ti)封裝(zhuang)等大面積涂布制備，以(yi)及氫燃料(liao)電(dian)(dian)池(chi)(chi)膜(mo)(mo)電(dian)(dian)極(ji)、電(dian)(dian)解水制氫膜(mo)(mo)電(dian)(dian)極(ji)、鋰電(dian)(dian)池(chi)(chi)、各(ge)種活(huo)性催化劑、異質結太(tai)(tai)陽(yang)能電(dian)(dian)池(chi)(chi)、薄膜(mo)(mo)太(tai)(tai)陽(yang)能電(dian)(dian)池(chi)(chi)、鈣(gai)鈦(tai)礦(kuang)太(tai)(tai)陽(yang)能電(dian)(dian)池(chi)(chi)、有機太(tai)(tai)陽(yang)能電(dian)(dian)池(chi)(chi)、OLED柔性穿(chuan)戴器(qi)件、有機場效應晶體(ti)管,導電(dian)(dian)聚合物,納米線和納米管,二維材料(liao),有機發光二極(ji)管和鈣(gai)鈦(tai)礦(kuang)發光二極(ji)管、鈣(gai)鈦(tai)礦(kuang)光伏電(dian)(dian)池(chi)(chi)、鋰離子電(dian)(dian)池(chi)(chi)的電(dian)(dian)解質和電(dian)(dian)極(ji)、染色敏(min)感性太(tai)(tai)陽(yang)能電(dian)(dian)池(chi)(chi)、電(dian)(dian)子皮膚等器(qi)件的制備。

  由(you)于常規實驗(yan)室(shi)涂(tu)(tu)布(bu)(bu)(bu)試驗(yan)機，受到(dao)刮刀調節，底(di)板(ban)平整度(du)(du)(du)(du)等的(de)影響(xiang)很難(nan)達到(dao)涂(tu)(tu)布(bu)(bu)(bu)納米級膜(mo)，狹(xia)(xia)縫式涂(tu)(tu)布(bu)(bu)(bu)試驗(yan)機，底(di)板(ban)采用檢驗(yan)級大(da)理(li)石平臺，同時(shi)采用非接(jie)觸式狹(xia)(xia)縫式涂(tu)(tu)布(bu)(bu)(bu)頭，通(tong)過進料(liao)壓力，狹(xia)(xia)縫寬(kuan)度(du)(du)(du)(du)調節，以及狹(xia)(xia)縫頭與底(di)板(ban)間(jian)隙三個因數(shu)控制濕膜(mo)厚度(du)(du)(du)(du)，同時(shi)軟件系統(tong)增(zeng)加了(le)高度(du)(du)(du)(du)調節與反饋系統(tong)，大(da)大(da)提高了(le)涂(tu)(tu)布(bu)(bu)(bu)精(jing)度(du)(du)(du)(du)與均勻性。在國內光學膜(mo)涂(tu)(tu)布(bu)(bu)(bu)實驗(yan)室(shi)研發打(da)樣階段(duan)得到(dao)了(le)廣泛的(de)應(ying)用。

鈣鈦礦發光二極管狹縫式涂布試驗機技術參數 

1. 產品型號：    AT-XTB-3040A

2.涂布方式：狹縫式涂布頭

3.涂布(bu)速度：1-30mm/s  任意設定

4.控制方式: 觸摸(mo)屏(ping)

5.涂(tu)布(bu)(bu)濕膜(mo)厚度(du)(du)范圍(wei)： 2-100um   （根(gen)據涂(tu)布(bu)(bu)速度(du)(du)和涂(tu)布(bu)(bu)液粘(zhan)度(du)(du)涂(tu)布(bu)(bu)范圍(wei)不同

6.干膜厚(hou)度(du)(du)范(fan)圍：  50nm-1000nm  (根據固(gu)含量不同(tong)干膜厚(hou)度(du)(du)范(fan)圍有偏(pian)差）

7.涂布固含(han)量范圍：1-70%

8.粘度范(fan)圍：1-300CPS

9.均勻性：4-6%

10.涂(tu)布(bu)寬度(du)范圍(wei)：10-260mm

11.涂布頭與底(di)板距離調(diao)節精(jing)度：0.002mm

12.加熱溫(wen)度范圍(wei)：室溫(wen)-150度

13.加熱板(ban)功率：2000w

14.涂布(bu)頭(tou)產(chan)地(di)：國產(chan) （可(ke)以定制進口涂布(bu)頭(tou)）

15. 氣(qi)源(yuan)壓(ya)力：0.6MPa

16. 涂(tu)布頭與底板間隙調(diao)(diao)(diao)節(jie)方式：手動(dong)調(diao)(diao)(diao)節(jie)/自(zi)動(dong)調(diao)(diao)(diao)節(jie)/自(zi)動(dong)調(diao)(diao)(diao)節(jie)帶反饋(kui)（調(diao)(diao)(diao)節(jie)方式客戶根據自(zi)己需(xu)要選配）

17. 試(shi)樣加持方式：機械固定/吸(xi)附(fu)固定（客戶根據(ju)自己需要(yao)選配）

18. 設備總功率：2500W

19.設備尺寸：750mmX400mmX450mm

20.涂布平臺尺寸：300X300mm

21.電源電壓：220V  50 Hz

產(chan)品特點 

1.采用(yong)滾珠絲杠傳動，運(yun)行(xing)平穩性更好(hao)

2.速度數字化可(ke)調，可(ke)以根據需(xu)要選(xuan)擇合適的速度.

3.高精(jing)度國產(chan)涂布頭，加料方便，涂布精(jing)度高，均勻性好

4.采用(yong)檢驗級(ji)大理石平(ping)臺(tai)，平(ping)整度好，可以達到微米級(ji)別。

5.觸摸屏(ping)控(kong)制，自(zi)動化(hua)程度高，涂布(bu)距離(li)可設定，有效(xiao)保證了涂布(bu)試樣的尺寸。