AT-XTB-1050A 狹縫式涂布試驗機簡單介紹：

狹(xia)(xia)縫(feng)(feng)式涂布(bu)(bu)試(shi)驗機由山東安尼麥(mai)特儀(yi)器有限公司精心研(yan)制高(gao)精度(du)精密型涂布(bu)(bu)試(shi)驗機，本機主要(yao)應用(yong)于(yu)蓋(gai)板玻(bo)璃的(de)各種涂膠(jiao)作業而開發(fa)設計的(de)專(zhuan)用(yong)裝置，同(tong)時也可以用(yong)于(yu)其他(ta)類(lei)似材料(liao)的(de)涂布(bu)(bu)。本涂布(bu)(bu)試(shi)驗機，底板采(cai)用(yong)微孔(kong)陶(tao)瓷吸(xi)附平(ping)臺(tai)，同(tong)時采(cai)用(yong)非接(jie)觸式狹(xia)(xia)縫(feng)(feng)式涂布(bu)(bu)頭(tou)，通(tong)過進料(liao)壓力，狹(xia)(xia)縫(feng)(feng)寬(kuan)度(du)調節，以及狹(xia)(xia)縫(feng)(feng)頭(tou)與底板間隙三個因數控制濕膜(mo)厚度(du)，同(tong)時軟件系統增加(jia)了高(gao)度(du)調節與反饋(kui)系統，大大提高(gao)了涂布(bu)(bu)精度(du)與均勻性。

應用場景：針對微米級特(te)別是納米及(ji)亞微米級功能性涂(tu)層的涂(tu)布試(shi)驗、墨水(shui)調(diao)試(shi)、工藝(yi)研(yan)究、小規模(mo)制(zhi)樣研(yan)發等。

涉及(ji)行業：包(bao)括水(shui)凝膠、液態金屬、智能包(bao)裝(zhuang)材(cai)(cai)料、光(guang)電(dian)(dian)(dian)材(cai)(cai)料、光(guang)刻膠、功(gong)能涂層、微電(dian)(dian)(dian)子及(ji)半導體(ti)封裝(zhuang)等大面積涂布制備，以及(ji)氫燃料電(dian)(dian)(dian)池(chi)(chi)(chi)(chi)膜電(dian)(dian)(dian)極(ji)、電(dian)(dian)(dian)解水(shui)制氫膜電(dian)(dian)(dian)極(ji)、鋰(li)電(dian)(dian)(dian)池(chi)(chi)(chi)(chi)、各種(zhong)活性催化劑、異(yi)質結太(tai)陽能電(dian)(dian)(dian)池(chi)(chi)(chi)(chi)、薄(bo)膜太(tai)陽能電(dian)(dian)(dian)池(chi)(chi)(chi)(chi)、鈣鈦礦太(tai)陽能電(dian)(dian)(dian)池(chi)(chi)(chi)(chi)、有機太(tai)陽能電(dian)(dian)(dian)池(chi)(chi)(chi)(chi)、OLED柔性穿戴器件、有機場效應晶體(ti)管(guan),導電(dian)(dian)(dian)聚(ju)合(he)物,納米線和納米管(guan),二維材(cai)(cai)料,有機發光(guang)二極(ji)管(guan)和鈣鈦礦發光(guang)二極(ji)管(guan)、鈣鈦礦光(guang)伏電(dian)(dian)(dian)池(chi)(chi)(chi)(chi)、鋰(li)離子電(dian)(dian)(dian)池(chi)(chi)(chi)(chi)的電(dian)(dian)(dian)解質和電(dian)(dian)(dian)極(ji)、染色敏感性太(tai)陽能電(dian)(dian)(dian)池(chi)(chi)(chi)(chi)、電(dian)(dian)(dian)子皮(pi)膚(fu)等器件的制備。

由于常規(gui)實驗(yan)室涂(tu)布(bu)(bu)試驗(yan)機(ji)，受到(dao)刮刀調節(jie)，底板平整度等的影響很(hen)難達(da)到(dao)涂(tu)布(bu)(bu)納米級膜，狹縫(feng)式涂(tu)布(bu)(bu)試驗(yan)機(ji)，底板采(cai)用(yong)檢驗(yan)級大理石平臺，同(tong)時采(cai)用(yong)非接(jie)觸式狹縫(feng)式涂(tu)布(bu)(bu)頭，通過進(jin)料壓力，狹縫(feng)寬度調節(jie)，以及狹縫(feng)頭與底板間(jian)隙(xi)三個因(yin)數控制濕膜厚度，同(tong)時軟件系統(tong)增加了高(gao)(gao)度調節(jie)與反(fan)饋(kui)系統(tong)，大大提高(gao)(gao)了涂(tu)布(bu)(bu)精度與均勻性(xing)。在國內(nei)光學(xue)膜涂(tu)布(bu)(bu)實驗(yan)室研發打樣(yang)階段得到(dao)了廣泛的應(ying)用(yong)。

AT-XTB-1050A 狹縫式涂布試驗機技術參數 

1.狹(xia)縫擠出頭材質：不銹鋼

2.狹(xia)縫擠出頭涂布(bu)寬度：10-50mm

3.狹縫擠(ji)出(chu)墊片厚度:100 μm

3.狹縫擠出(chu)墊片套裝:5 個 50毫米(mi)寬(kuan)(kuan)墊片或5 個 25毫米(mi)寬(kuan)(kuan)的墊片

4.電熱板溫(wen)度(du):120°C

5.行程長度:10-100mm

6.平臺(tai)速度:100 μm.s-1

7.最高平臺速度:50 mm s - 1

8.注射器速度:12 μm.s-1

9.最(zui)高注射速度(du):5 mm.s-1

10.涂布頭與基(ji)片(pian)之間(jian)最大(da)活動距離:13 mm

11.管(guan)道和接(jie)頭(tou)材質:聚(ju)四氟乙(yi)烯管(guan)，高(gao)密度PP魯爾接(jie)口鎖定連(lian)接(jie)器(qi)、不銹鋼(gang)魯爾接(jie)口連(lian)接(jie)器(qi)至螺紋(wen)連(lian)接(jie)件

12.電源參數：100 - 240 V 50Hz

13.尺寸(cun)規格:380 mm x 330 mm x 220 mm

14.重量：30kg